Labelexpo Asia 2013:苏大维格光电科技

苏大维格光电科技LabelexpoAsia2013亚洲国际标签展

  苏大维格光电科技股份有限公司将在12月3—6日上海新国际博览中心举办的第6届亚洲国际标签印刷展览会(Labelexpo Asia 2013)上展出具有高度防伪性的标签耗材,其中包括:

  (1)纳米隐性水印系列产品:

  隐形水印是一种裸眼观察、不影响外观、难度极高的视读解决方法。作为顶级方案,已应用与国内外知名品牌上整体安全包装。

  (2)AMOS 动态光放大膜 :

  组合薄膜,具有三种材料:微透镜阵列、间隔层、微图文层 

  随着视角变化,放大的微图形具有动态效果 

  可产生平行移动、正交移动等动态效果 

  不需其它辅助检测仪器,在任意环境光下都可鉴别 

  良好的柔韧性 仿造难度极大 

  (3)Color-Shift  透明双通道变色膜(纸张) :

  Color-Shift 在透明材料上:不影响外观、抗复印 

   转动标签(证卡): 看到双通道转换变色 

  亚波长变色技术: 已应用于国家证卡 

  (4)Color-shift  变色烫印膜 :

  特殊纳米结构设计与专门工艺,在烫印膜上形成变色图形,正视呈绿色,掠视呈深紫色 

  (5)Deep lines exposal&Flare深纹曝光闪耀系列产品:

  是公司最新开发出来的、在紫外激光直写设备 iGrapher820上实现以及通过特殊光刻槽形设计,达到更闪亮的银亮闪耀效果防伪技术。 

  (6)Holographic lens光刻全息透镜 :

  独一无二的全息透镜组合,连续变空频光刻, 从300nm改变到10um,可任意设计单元图形 

  没有观察角度限制!

  展位号:E88

 

[时间:2013-11-04  来源:必胜网信息中心]

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