承印材料的选择和曝光控制

承印材料曝光控制PS版

  预涂感光平版(又称PS版)从50年代开始应用至今, 以其分辨率高、网点光洁、耐印力高等特点,逐步替代蛋白版、多层金属版等版材,成为现代快速印刷的新型版材。目前,正常情况下,PS版的耐印力一般在 10万印左 右,经过烘烤的 PS版耐印力可提高 3- 5倍,达到 30万---50万印,但现在有许多厂家反映 PS版耐印力不高,一般 只有2万---3万印,甚至才印几千张就开始掉版。这里,本人仅就个人经验,依照PS版生产工艺流程,对PS版耐印力进行版材生产和制版工序的粗略探讨和分析。

  一、版材选择

  PS版的版基是铝。用于PS版的铝材,属于一般工业 级纯铝,厚度一般在0.3mm,含量为99.5%.主要杂质为 铁和硅,其次是铜、镁、锌、锰、钛等。铝板中少量杂质 的存在,能提高纯铝的抗拉强度和硬度,减小延伸率,降 低铝的导电性能。

  二、感光剂的组成和涂布

  PS版用感光剂由感光性物质、成膜性高分子树脂、染 料、有机溶剂组成。对于单独使用光敏剂配成感光剂涂布 的感光层,其耐碱性强,成膜性差,显影困难;在光敏剂中加入适量的酚醛树脂。

  虽耐碱性较差,但成膜性和吸附性得以提高,两者的配比为0.5:1或0.62:1,如果光敏剂少,成膜树脂多,则耐碱性降低,网点易损失,残膜率低,直接降低印版耐印力。

  PS版感光剂的涂布需用专用涂布机,才能保证涂 布后的感光层厚薄均匀。涂布机一般分为单张版和卷 筒版两类。在涂布方式上,有铺流式、辊涂式、挤压 式和静电涂布式。我们不提倡使用离心式涂布。我国 常用辊涂式,为保证涂布质量,一般阴图型感光层固 体含量为 1g/m2左右。阳图型为 2-2.5g/m2,厚度一 般为(20±1.0)mg/dm2。当涂布产生横向条纹等故 障时应及时排除。

  三、PS版的制版

  PS版制版的关键是最大限度地再现胶片的网点和阶 调,在印版表面形成牢固的亲油基础和稳定的亲水基础。 否则,不仅浪费了时间,更严重的是降低了印版耐印大,浪费版材。

  直接影响制版质量的一系列因素包括制版原版.PS版的网点再现性,制版设备和条件。制版工艺和操作,特别是曝光、显影条件等。


  1.晒版原版

  PS版的阳图或阴图原版,可用传统的照相制版、电子分色及照排等方法制成。除了阶调再现曲线应有所调 整外,还必须注意原版的密度反差和网点光洁度。

  由于原版的Y值过低,曝光、显影不足或减薄过度等原因。容 易形成密度低的软性网点或者是中间密度大,边缘密度小的活性网点。

  这两类网点的晒版稳定性差,曝光、显 影稍有变化,就会使印版深浅不一,从而直接影响印版耐印力。硬性网点的原版,由于密度高,网点光洁,曝 光和显影的宽容度都较大,所以质量稳定。

  因此,晒版用原版字迹图案必须清晰且要密度大,反差大。以华光 牌YZ-600 11型胶片为例.原版最大密度应在4.0以上。 最小密度在0.05以下,反差系数在8.0以上,版面清洁 减少灰雾度和拼贴。

  2.晒版光源

  对于晒版光源。由于感光剂的感光是一个氧化还原反应。只有感光剂充分吸收T足够的光能才能发生,并且它 的分解、交联、合的程度是和所需光线强度和光照时间成正比的,因此,晒版光源的发射光谱与感光剂光敏曲线的敏感区应尽量匹配。

  实验证明,阳图型感光刺的分光感度在300nm-460nm以内,附图型在200nm-500nm以内。考虑到晒版原版和晒版玻璃的影响。光谱设计在350nm-460nm区域内较适宜,因此,现在晒制PS版的较理想光源为碘镓灯。

  3.曝光量

  在正常的制版过程中。曝光量是影响网点变化和版面 深浅的最主要因素。我们知道,晒版曝光量=照度×晒版 时间。由于常用的PS版阳图型属于光分解型。因此,当曝光量超过临界光量值,即曝光过度时,网点就会缩小,细笔划和小网点难以再现;当曝光量小于临界光量值,即曝光不足时。网点就会相应扩大变粗。使版面起脏,影响版面深浅。

  因此,在晒版过程中,对于曝光量的控制,应采用连续调发梯尺或是布鲁纳尔测试条进行监控,其作用就是在显影后检查曝光量是否合适。一般打样版控制在3-4级(密度为0.4-0.55),印刷版控制在4.5-5.5级(密度为0.625-0.775)晒白不吸墨。

  在晒制阳图版时,如能将0.5%的小点子和99.5%空心点子成对晒出来,这样的印版才算合格。

 

[时间:2012-08-13  来源:耗材网]

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